一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室的制作方法

一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室的制作方法

【专利摘要】本实用(yòng)新(xīn)型公开了一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，包括一大型洁净空间及回风通道；大型洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间，所述循环空间内设有(yǒu)生产辅助设备；所述循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域的四周均设有(yǒu)隔板，使其构成独立的密闭空间；在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有(yǒu)至少1个回风柱，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通；所述回风柱内设有(yǒu)风机。本实用(yòng)新(xīn)型解决了生产辅助设备易产生泄漏的问题；与此同时，在洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设置多(duō)个回风柱，通过回风柱实现气流循环，同时还充分(fēn)利用(yòng)了其内的洁净空气，而且降低了消耗。

【专利说明】一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室

【技术领域】

[0001]本实用(yòng)新(xīn)型涉及一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，是指用(yòng)于半导體(tǐ)的生产场合。

【背景技术】

[0002]半导體(tǐ)厂房是专门用(yòng)来制备半导體(tǐ)器件的地方，目前已经得到了广泛应用(yòng)。由于半导體(tǐ)器件的特殊性，要求半导體(tǐ)厂房必须设计成洁净室，以满足恒温恒湿以及洁净度等要求。对于一些高端半导體(tǐ)的生产厂房，如32/28nm，甚至以下的高端制程，不但对洁净度的要求较高，且对漂浮于空气中的悬浮化學(xué)分(fēn)子气體(tǐ)污染更為(wèi)严格。

[0003]现有(yǒu)的用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室参见附图1所示，主要包括新(xīn)风输送系统、排气系统和一大型洁净空间，所述大型洁净空间从上到下包括架构空间4、洁净空间5和循环空间6，架构空间和洁净空间之间设有(yǒu)天花(huā)板7，洁净空间和循环空间之间设有(yǒu)高架地板2和混凝土板3。

[0004]所述大型洁净空间内设有(yǒu)各种加工设备，在循环空间(又(yòu)称技术夹层)内会设有(yǒu)各种生产辅助设备1，如真空泵、冷冻机等，实际应用(yòng)发现:真空泵会因為(wèi)震动而松脱，导致气體(tǐ)泄漏；冷冻机的配管在清洗过程中因未锁紧或接头松动而泄漏腐蚀性气體(tǐ)。在以往的案例中，尤其是干刻蚀區(qū)会经常发生上述事故，导致腐蚀性气體(tǐ)泄漏，这不仅会造成导線(xiàn)腐蚀，而且这些腐蚀性气體(tǐ)还会通过回风通道进入整个洁净空间，造成散布扩散，从而影响了产品的质量。这种因為(wèi)位于循环空间内的生产辅助设备泄漏而造成整个洁净空间的污染事件时有(yǒu)发生。

[0005]针对上述问题，现有(yǒu)技术采用(yòng)的方法是在洁净室内设置化學(xué)过滤器，但由于洁净室内的空间较大，很(hěn)难做到完全清除，且该法的成本极高；这对于一些高端半导體(tǐ)的生产厂房(如32/28nm高端制程)是非常致命的，原因是高端半导體(tǐ)产品对腐蚀性气體(tǐ)的含量要求更高。因此，开发一种能(néng)避免腐蚀性气體(tǐ)影响的洁净室，对于一些高端半导體(tǐ)的生产厂房具有(yǒu)积极的现实意义。

【发明内容】

[0006]本实用(yòng)新(xīn)型的目的是提供一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室。

[0007]為(wèi)达到上述发明目的，本实用(yòng)新(xīn)型采用(yòng)的技术方案是:一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，包括新(xīn)风输送系统、排气系统和一大型洁净空间及回风通道；

[0008]所述大型洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间，架构空间和洁净空间之间设有(yǒu)天花(huā)板，洁净空间和循环空间之间设有(yǒu)高架地板和混凝土板；所述循环空间内设有(yǒu)生产辅助设备；

[0009]所述循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域的四周均设有(yǒu)隔板，使其构成独立的密闭空间；循环空间内还设有(yǒu)连通管，连通管的一端与所述密闭空间连通，另一端与洁净室的外界连通；

[0010]在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有(yǒu)至少I个回风柱，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通；

[0011]所述回风柱内设有(yǒu)风机。

[0012]上文(wén)中，所述循环空间内还设有(yǒu)连通管，其与所述密闭空间连通，从而当生产辅助设备产生泄漏时，可(kě)以通过连通管将腐蚀性气體(tǐ)排出。在连通管的出口处，还可(kě)以设置洗涤塔。连通管上还可(kě)以设有(yǒu)阀门。

[0013]本实用(yòng)新(xīn)型通过设置隔板将循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域隔离出来，从而解决了生产辅助设备易产生泄漏的问题。然而，与此同时，由于循环空间的封闭设置，导致其上方的洁净空间的气流循环无法完成，因此，在洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设置多(duō)个回风柱，通过回风柱实现气流循环。至于回风柱的数量，应当根据实际情况设定。

[0014]所述回风柱内设有(yǒu)风机。风机的作用(yòng)是使其内的气體(tǐ)向上流动，形成气流循环。

[0015]由于回风柱的设置，其对应的洁净空间可(kě)以顺利的完成气流循环，因此其两侧的回风通道就成了摆设，因此，可(kě)以将回风通道取消，改造成正常的洁净空间使用(yòng)，增加可(kě)用(yòng)空间。

[0016]上述技术方案中，所述架构空间和高架地板内相对于所述密闭空间的位置均设有(yǒu)隔板，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

[0017]优选的，所述架构空间、高架地板和洁净空间内相对于所述密闭空间的位置均设有(yǒu)隔板，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

[0018]上述技术方案中，所述密闭空间的顶端设有(yǒu)密封板，所述密封板设于高架地板和混凝土板之间。

[0019]上述技术方案中，所述回风柱内设有(yǒu)干盘管。以进行温度调节。在某些生产區(qū)域，设备发热量低但洁净风需求量多(duō)，造成实际需要通过干盘管的风量比真正通过的风量多(duō)，形成能(néng)源浪费。此时还可(kě)以在天花(huā)板上增设回风口，搭配回风柱内设置的干盘管，而获得上述问题的较好解决。

[0020]由于上述技术方案运用(yòng)，本实用(yòng)新(xīn)型与现有(yǒu)技术相比具有(yǒu)下列优点:

[0021]1、本实用(yòng)新(xīn)型设计得到了一种新(xīn)的用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，通过设置隔板将循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域隔离出来，从而解决了生产辅助设备易产生泄漏的问题；与此同时，由于循环空间的封闭设置，导致其上方的洁净空间的气流循环无法完成，因此在洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设置多(duō)个回风柱，通过回风柱实现气流循环，同时还充分(fēn)利用(yòng)了其内的洁净空气，而且降低了消耗；

[0022]2、本实用(yòng)新(xīn)型在循环空间内还设置了连通管，其与所述密闭空间连通，从而当生产辅助设备产生泄漏时，可(kě)以通过连通管将腐蚀性气體(tǐ)排出；在连通管的出口处，还可(kě)以设置洗涤塔；从而较好地解决了生产辅助设备的泄漏问题，且避免了腐蚀性气體(tǐ)影响的洁净室;

[0023]3、本实用(yòng)新(xīn)型在架构空间和高架地板内相对于密闭空间的位置均设有(yǒu)隔板，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构，再配合其内的回风柱，构成了洁净微环境结构，从而充分(fēn)利用(yòng)了其内的空间；且回风柱可(kě)以在洁净微环境结构中形成微循环，不仅充分(fēn)利用(yòng)了其内的洁净空气，而且降低了消耗；

[0024]4、本实用(yòng)新(xīn)型在回风柱内设置干盘管，可(kě)以进行温度调节；解决了某些生产區(qū)域设备发热量低但洁净风需求量多(duō)，造成实际需要通过干盘管的风量比真正通过的风量多(duō)而形成的能(néng)源浪费问题；

[0025]5、本实用(yòng)新(xīn)型的结构简单，易于制备，适于推广应用(yòng)。

【专利附图】

【附图说明】

[0026]图1是【背景技术】中的洁净室的局部剖视图；

[0027]图2是本实用(yòng)新(xīn)型实施例一的局部剖视图；

[0028]图3是图2的气流示意图；

[0029]图4是本实用(yòng)新(xīn)型实施例二的局部剖视图；

[0030]图5是图4的气流示意图。

[0031]其中:1、生产辅助设备；2、高架地板；3、混凝土板；4、架构空间；5、洁净空间；6、循环空间；7、天花(huā)板；8、隔板；9、回风柱；10、风机；11、第二隔板；12、密封板；13、干盘管。

【具體(tǐ)实施方式】

[0032]下面结合附图及实施例对本实用(yòng)新(xīn)型作进一步描述:

[0033]实施例一

[0034]参见图2?3所示，一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，包括新(xīn)风输送系统、排气系统和一大型洁净空间及回风通道；

[0035]所述大型洁净空间从上到下包括架构空间4、洁净空间5和循环空间6，架构空间和洁净空间之间设有(yǒu)天花(huā)板7，洁净空间和循环空间之间设有(yǒu)高架地板和混凝土板；所述循环空间内设有(yǒu)生产辅助设备；

[0036]所述循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域的四周均设有(yǒu)隔板8，使其构成独立的密闭空间；循环空间内还设有(yǒu)连通管，连通管的一端与所述密闭空间连通，另一端与洁净室的外界连通；

[0037]在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有(yǒu)至少I个回风柱9，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通；

[0038]所述回风柱内设有(yǒu)风机10。所述回风柱内设有(yǒu)干盘管13。

[0039]所述架构空间和高架地板内相对于所述密闭空间的位置均设有(yǒu)第二隔板11，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

[0040]所述密闭空间的顶端设有(yǒu)密封板12，所述密封板设于高架地板和混凝土板之间。

[0041]上文(wén)中，所述循环空间内还设有(yǒu)连通管，其与所述密闭空间连通，从而当生产辅助设备产生泄漏时，可(kě)以通过连通管将腐蚀性气體(tǐ)排出。在连通管的出口处，还可(kě)以设置洗涤塔。连通管上还可(kě)以设有(yǒu)阀门。

[0042]本实用(yòng)新(xīn)型通过设置隔板将循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域隔离出来，从而解决了生产辅助设备易产生泄漏的问题。然而，与此同时，由于循环空间的封闭设置，导致其上方的洁净空间的气流循环无法完成，因此，在洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设置多(duō)个回风柱，通过回风柱实现气流循环。至于回风柱的数量，应当根据实际情况设定。

[0043]所述回风柱内设有(yǒu)风机。风机的作用(yòng)是使其内的气體(tǐ)向上流动，形成气流循环。

[0044]由于回风柱的设置，其对应的洁净空间可(kě)以顺利的完成气流循环，因此其两侧的回风通道就成了摆设，因此，可(kě)以将回风通道取消，改造成正常的洁净空间。

[0045]实施例二

[0046]参见图4飞所示，一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，包括新(xīn)风输送系统、排气系统和一大型洁净空间及回风通道；

[0047]所述大型洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间，架构空间和洁净空间之间设有(yǒu)天花(huā)板，洁净空间和循环空间之间设有(yǒu)高架地板和混凝土板；所述循环空间内设有(yǒu)生产辅助设备；

[0048]所述循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域的四周均设有(yǒu)隔板8，使其构成独立的密闭空间；循环空间内还设有(yǒu)连通管，连通管的一端与所述密闭空间连通，另一端与洁净室的外界连通；

[0049]在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有(yǒu)至少I个回风柱，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通；

[0050]所述回风柱内设有(yǒu)风机。所述回风柱内设有(yǒu)干盘管。

[0051]所述架构空间、高架地板和洁净空间内相对于所述密闭空间的位置均设有(yǒu)第二隔板11，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

【权利要求】

1.一种用(yòng)于半导體(tǐ)厂房的洁净室，包括新(xīn)风输送系统、排气系统和一大型洁净空间及回风通道； 所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6)，架构空间和洁净空间之间设有(yǒu)天花(huā)板(7)，洁净空间和循环空间之间设有(yǒu)高架地板(2)和混凝土板(3);所述循环空间内设有(yǒu)生产辅助设备；其特征在于: 所述循环空间内设置生产辅助设备的區(qū)域的四周均设有(yǒu)隔板(8)，使其构成独立的密闭空间；循环空间内还设有(yǒu)连通管，连通管的一端与所述密闭空间连通，另一端与洁净室的外界连通； 在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有(yǒu)至少I个回风柱(9)，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通； 所述回风柱内设有(yǒu)风机(10)。

2.根据权利要求1所述的洁净室，其特征在于:所述架构空间和高架地板内相对于所述密闭空间的位置均设有(yǒu)第二隔板(11)，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

3.根据权利要求2所述的洁净室，其特征在于:所述架构空间、高架地板和洁净空间内相对于所述密闭空间的位置均设有(yǒu)第二隔板，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

4.根据权利要求1所述的洁净室，其特征在于:所述密闭空间的顶端设有(yǒu)密封板(12)，所述密封板设于高架地板和混凝土板之间。

5.根据权利要求1所述的洁净室，其特征在于:所述回风柱内设有(yǒu)干盘管(13)。

【文(wén)档编号】F24F7/10GK203783198SQ201420120184

【公开日】2014年8月20日 申请日期:2014年3月18日 优先权日:2014年3月18日

【发明者】杨政谕 申请人:亚翔系统集成科(kē)技（苏州）股份有(yǒu)限公司