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半导體(tǐ)工业是极精密的工业,当我们把计算机拆开之后,在電(diàn)路板上一颗颗小(xiǎo)小(xiǎo)的IC都有(yǒu)数百万颗甚至数千万颗的晶體(tǐ)管。為(wèi)了让这些极小(xiǎo)的晶體(tǐ)管妥善的工作,制造的过程必须在无尘室内进行,集成電(diàn)路制造的工厂动辄需要数十亿、数百亿的投资,多(duō)因為(wèi)需要一个无尘室。
所谓的无尘室是一个人造的环境,里面含有(yǒu)的粒子遠(yuǎn)低于一般的环境,随着集成電(diàn)路技术的快速成長(cháng),也增加了对制造环境(无尘室)洁静度的需求,在工业上即使粒子之尺寸小(xiǎo)于1微米,也可(kě)能(néng)阻碍产品的运作或降低其寿命。
由于奈米技术的兴起,造成半导體(tǐ)关键尺寸持续缩小(xiǎo),集成電(diàn)路积集度不断的增加,尘粒更容易使芯片失效或可(kě)靠度恶化。例如当金属尘粒地落到金属导線(xiàn)时,就可(kě)能(néng)会使金属导線(xiàn)形成短路。又(yòu)如果有(yǒu)酸性的离子化合物(wù)尘粒掉在金属导線(xiàn)上,可(kě)能(néng)将其腐蚀,所以无尘室為(wèi)集成電(diàn)路制造不可(kě)或缺的要素。
依据美國(guó)联邦政府颁布的标准【Federal Standard (FS) 209E, 1992】,可(kě)将无尘室分(fēn)為(wèi)六级。分(fēn)别是1级、10级、100级、1000级、10000级、100000级,如果无尘室的等级只用(yòng)尘粒数目来叙述,则可(kě)假设尘粒的尺寸為(wèi)0.5?m,例如,1级、10级、100级无尘室最大尘粒数目分(fēn)别小(xiǎo)于或等于1颗、10颗、100颗,如果尘粒尺寸不是0.5?m,无尘室等级应以在一特定尘粒尺寸的级数来表示。例如:10级在0.2?m(尘粒尺寸在0.2?m或更大下,密度不大于75颗/立方英?),1级在0.1?m(尘粒尺寸在0.1?m或更大下,密度不大于35颗/立方英)。而集成電(diàn)路制造所需的无尘室之洁净度必须优于1000级。
為(wèi)保持无尘室的洁净度,进出的人员有(yǒu)一定的穿著规定;10000与100000级,必须穿著長(cháng)袍无尘衣、无尘鞋、带帽子与面罩;1000级(含)以上,需穿著特殊的洁净连身衣、无尘鞋将全身裹住,并带上手套和面罩,下表為(wèi)无尘室清洁度的
定义:
尘粒数/立方英
级数 0.1μm 0.2μm 0.3μm 0.4μm 0.5μm
1 35 7.5 3 1 N/A
10 350 75 30 10 N/A
100 N/A 750 300 100 N/A
1000 N/A N/A N/A 1000 7
10000 N/A N/A N/A 10000 70
100000 N/A N/A N/A 100000 700
本文(wén)标签:无尘室
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